无机盐严重结垢的膜元件质量会超过20Kg，甚至超过30Kg，严重时会将膜壳撑裂，但是反渗透膜内部结构并未损坏，还能使用，这种情况往往会造成脱盐率降低，此时用在线方式是洗不出来的，必须离线清洗。
无机盐严重结垢的膜元件质量会超过20Kg，甚至超过30Kg，严重时会将膜壳撑裂，但是反渗透膜内部结构并未损坏，还能使用，这种情况往往会造成脱盐率降低，此时用在线方式是洗不出来的，必须离线清洗。
一．碳酸钙垢
因为碳酸钙垢是极易溶于酸中的，所以当碳酸钙垢的比例在整个污染物中超过30%以上时，就可以通过酸洗在除掉碳酸钙的同时将附着在一起的其他污染物一起清理干净。
如果碳酸钙垢的比例不大，则不可单纯依靠酸洗带出其他污染物，此时要根据盐垢的性质具体分析，如果是药物不好溶的，就要借助物理方法相结合，比如采取反向加压或借助超声波使污染物产生振动松散，从而带出膜元件。
清洗药剂组成：盐酸、硝酸、硫酸等按照一定比例组成进行清洗，当酸度不够时要进行补加。
二．硫酸钙垢
由于硫酸钙本身的难溶性，所以一旦生成就很难用一般药剂彻底清洗干净，根据硫酸钙的特征，可采用专用化学药剂进行处理。往往硫酸钙垢是不能单纯依靠酸洗清除彻底的，所以必须由两种以上清洗方式交替清洗，由于硫酸钙垢不是单一形式存在的，一般与其他垢类相附沉积，所以可先洗酸洗进行疏松，再由专业硫酸钙垢清洗药剂辅以物理除垢方法进行针对性清洗剥离。
清洗药剂组成：碱液、金属螯合剂、三聚磷酸钠配合使用。
三．硅垢
在反渗透中，二氧化硅可能沉积在膜表面，降低传至效率，沉积物的出现与二氧化硅的形态有关，即是以单体、聚合物或是以胶体形态存在于水中的，此外还与二氧化硅的浓度有关。单体二氧化硅的极高的溶解性通常被认为是生成二氧化硅垢的原因，二氧化硅很难去除。因此单纯依靠化学方法难以去除，即使在离线清洗中，一般也要配合加热、超声波、反向加压等物理手段进行处理，方能达到理想效果。
